鎂合金微弧氧化受自身電解工藝影響，無法避免地形成多孔膜層，膜層的多孔性為腐蝕過程電解質溶液的滲透提供通道，使腐蝕加劇。

        鎂合金傳統微弧氧化膜首先在基體表面形成致密的內層結構，并隨著氧化過程的不斷持續，致密內層的厚度不斷生長并逐漸形成疏松多孔的外層結構。而且在微弧氧化的整個過程中始終伴隨著噴發強度很大的火花，火花的放電直徑可達100μm以上，而這正是形成氧化膜外層疏松層的原因之一，而且工藝耗能大成本高，工藝時間長。

        鎂合金微弧氧化技術還無法完全解決鎂合金腐蝕通電問題，因此從技術的角度加強鎂合金表面處理技術的發展、深入研究保護膜形成的機理，可進一步改善表面防護膜的性能以解決鎂合金腐蝕痛點，在行業應用領域上對推進鎂合金材料在航空航天、交通領域與電子工業等領域的應用具有十分重要的現實意義和經濟效益。

        復合氧化技術，是一種針對鎂合金材料的耐蝕性、耐磨性、耐高溫等性能問題研發出的鎂合金表面處理最新工藝，工藝完美的優化了這些問題，復合氧化技術是繼化學鍍、轉化膜涂層、陽極氧化、有機物涂層、熱噴涂和氣相處理等鎂合金表面處理之后研發的最新技術。

        鎂合金復合氧化技術具有工藝簡單、材料適應性寬等特點，所得膜層均勻、質硬，可以起到長期的保護作用,鹽霧時間可達200小時，涂層與基體的結合緊密,這也是鎂合金表面處理技術發展的一個重要突破。