鎂及其合金作為結構材料有密度小、強度大、無毒等優良性能，但其耐腐蝕性能較差，諸多應用受限。目前已存在很多控制鎂合金的降解速率的方法，微弧氧化復合膜是一種有效且經濟的手段。

        鎂合金微弧氧化技術是指在基體表面借助微區火花放電而在有色金屬表面原位生長多孔狀結構的氧化薄膜的技術。微弧氧化膜具有附著力較好、耐腐蝕、耐磨、生物防腐、抗高溫沖擊、介電常熟低等優點。微弧氧化技術是鎂、鋁、鈦等金屬及其合金常用的表面處理技術之一，可控制鎂合金微弧氧化膜的氧化層厚度、電化學成分、孔徑及粗糙度等。

        微弧氧化膜包括內部致密層和外部多孔層，內層是腐蝕介質的物理屏蔽，外層的微孔和微孔裂紋可增強有機物或聚合物在膜上的附著力。目前，多通過調節微弧氧化工藝過程或進行微弧氧化膜后處理來改善膜層致密度，從而提高其耐蝕性，而微弧氧化工藝過程調節的研究多集中在電參數和電解液成分調節，微弧氧化 膜后處理是通過傳統封孔或復合膜工藝來進一步提高微弧氧化 膜性能。由于微弧氧化 膜外層的微孔和微裂紋為有機物或聚合物提供了機械聯鎖位點，因此，可在鎂合金微弧氧化 膜基礎上開發具有良好結構和耐腐蝕性能的復合膜，鎂合金微弧氧化 膜可結合低摩擦層或潤滑膜，包括疏水膜、化學鍍、類金剛石膜和硬涂層等。

        近年來，雖然鎂合金微弧氧化得以快速發展，但鎂合金微弧氧化膜容易產生微孔和微裂紋從而降低鎂合金的耐蝕性，并且目前仍存在國內為缺乏大型鎂合金微弧氧化工業生產線，單一的鎂合金微弧氧化無法滿足實際要求、工藝復雜、成本高等問題。因此從技術的角度加強鎂合金表面處理技術的發展、深入研究保護膜形成的機理，可進一步改善表面防護膜的性能以解決鎂合金腐蝕痛點，在行業應用領域上對推進鎂合金材料在航空航天、交通領域與電子工業等領域的應用具有十分重要的現實意義和經濟效益。

        復合氧化技術，是一種針對鎂合金材料的耐蝕性、耐磨性、耐高溫等性能問題研發出的鎂合金表面處理最新工藝，工藝完美的優化了這些問題，復合氧化技術是繼化學鍍、轉化膜涂層、陽極氧化、有機物涂層、熱噴涂和氣相處理等鎂合金表面處理之后研發的最新技術。鎂合金復合氧化技術具有工藝簡單、材料適應性寬等特點，所得膜層均勻、質硬，可以起到長期的保護作用,鹽霧時間可達200小時，涂層與基體的結合緊密,這也是鎂合金表面處理技術發展的一個重要突破。