微弧氧化又被稱為微弧等離子體氧化或陽極火花沉積，總稱微弧氧化。利用交、直流電在陽極區產生等離子微弧放電，瞬間的高溫燒結作用直接在鎂合金表面原位形成陶瓷膜。微弧區溫度可以達到1000℃以上，從而使陽極氧化物溶覆在金屬鎂合金表面，這種陶瓷質膜大大提高了陽極氧化膜的硬度和致密性。膜層厚度大約在5~70μm間可調整。微弧氧化生成的陶瓷膜可以保證在中性鹽霧里通過500h，涂層附著力達到0級，顯微硬度在400HV左右。但微弧氧化后仍需進一步涂裝保護。

        微弧氧化又被稱為微弧等離子體氧化或陽極火花沉積，總稱微弧氧化。利用交、直流電在陽極區產生等離子微弧放電，瞬間的高溫燒結作用直接在鎂合金表面原位形成陶瓷膜。微弧區溫度可以達到1000℃以上，從而使陽極氧化物溶覆在金屬鎂合金表面，這種陶瓷質膜大大提高了陽極氧化膜的硬度和致密性。膜層厚度大約在5~70μm間可調整。微弧氧化生成的陶瓷膜可以保證在中性鹽霧里通過500h，涂層附著力達到0級，顯微硬度在400HV左右。但微弧氧化后仍需進一步涂裝保護。

        微弧氧化所形成的氧化膜具有明顯的三層結構：外部的疏松層、中間的致密層和內部的結合層。致密層占總膜厚的90%，與基體形成微區冶金結合。微弧氧化疏松層中存在許多孔洞及其他缺陷，其物理、化學特性與微弧氧化處理時電參量的選擇、電解液的配方以及樣品自身的特性有關。

        微弧氧化工藝的特點是：①應用成本比硬質陽極氧化低；②前處理較為簡單；③環境良好；④對形狀復雜的工件以及受限通道可以形成均勻的膜層；⑤尺寸形變小；⑥耐蝕性良好。

        但微弧氧化自身受電解工藝影響，無法避免的形成多孔膜層，膜層的多孔性為腐蝕過程電解質溶液的滲透提供通道，使腐蝕加劇，耗能大成本高，工藝時間長。

        綜上，鎂合金微弧氧化技術雖然可以應用在鎂合金表面處理工藝中，但還不能完全解決鎂合金生銹痛點，因此，從技術的角度加強鎂合金表面處理技術的發展、深入研究保護膜形成的機理，可進一步改善表面防護膜的性能以解決鎂合金腐蝕痛點，在行業應用領域上對推進鎂合金材料在航空航天、交通領域與電子工業等領域的應用具有十分重要的現實意義和經濟效益。

        復合氧化技術，是一種針對鎂合金材料的耐蝕性、耐磨性、耐高溫等性能問題研發出的鎂合金表面處理最新工藝，工藝完美的優化了這些問題，復合氧化技術是繼化學鍍、轉化膜涂層、陽極氧化、有機物涂層、熱噴涂和氣相處理等鎂合金表面處理之后研發的最新技術。鎂合金復合氧化技術具有工藝簡單、材料適應性寬等特點，所得膜層均勻、質硬，可以起到長期的保護作用,鹽霧時間可達200小時，涂層與基體的結合緊密,這也是鎂合金表面處理技術發展的一個重要突破。